Skip to content

Powierzchnia reagujaca w tym przypadku zalezna jest od powierzchni wlasciwej tlenku wapniowego, która jest waznym kryterium aktywnosci wapna palonego

1 miesiąc ago

203 words

Powierzchnia reagująca w tym przypadku zależna jest od powierzchni właściwej tlenku wapniowego, która jest ważnym kryterium aktywności wapna palonego. Powierzchnia właściwa obejmuje powierzchnię zewnętrzną i wewnętrzną ziarn. Waha się ona w szerokich granicach dla wapna palonego, zależnie od warunków wypalania, składu chemicznego węglanu wapniowego i jego uziarnienia . Na przykład pewna ilość próbek wapna palonego wypalanego w różnych warunkach wykazała powierzchnię właściwą w granicach od 0,44 do 1,30 fili/g. Gdy powierzchnia adsorbująca tlenku wapniowego zostanie wysycona, wówczas wzrost temperatury zostaje zahamowany aż do czasu odpowiadającego punktowi . Począwszy od tego punktu rozpoczyna się właściwa hydratacja i temperatura ponownie wzrasta do pewnej optymalnej wysokości, przy której ustala się na prawie jednakowym poziomie. Krzywa odpowiada tlenkowi wapniowemu o bardzo aktywnej hydratacji, krzywa – o średniej hydratacji, jaką wykazuj e często wapno palone używane do zapraw i innych celów budowlanych, krzywa przedstawia proces hydratacji bardzo nisko aktywnego tlenku wapniowego zanieczyszczonego i częściowo skarbonizowanego lub nawet zhydratyzowanego. Hydratacja tlenku wapniowego w wyrobach ceramiki budowlanej przebiega przeważnie wg krzywych o kształcie pośrednim. [patrz też: listwy przysufitowe dzień noc, listwy przysufitowe, listwy przysufitowe materiałowe ]

Powiązane tematy z artykułem: listwy przysufitowe montaż smt wiercenie w żelbecie